电镀是采用电化学方法使金属离子还原为金属，并在金属或非金属制品表面形成符合要求的平滑、致密的金属覆盖层。电镀后的镀层性能在很大程度上取代了原来基体的性质，起装饰和防护作用。随着装饰业的发展及膜保护需求量的增加，人们对电镀质量的要求越来越高。但目前电镀技术仍存在某些缺陷，诸如加工时间长、镀层厚度均匀性差、镀层容易出现缺陷以及存在较大内应力等。这些缺陷限制了电镀技术的应用和发展，不能适应当前的生产，尤其是精密制造的需要【1】。电镀生产采用何种电源对镀层质量的影响很大。脉冲电镀是一项新的电镀技术，本文就电镀电源中脉冲电源技术作简单介绍。

    2电镀电源的发展

    2.1电镀的基本原理

    电镀电源是用来在电镀中产生电流的装置，电流通过镀槽是电镀的必要条件，镀件上的金属镀层在电流流过电镀槽时.引起电化学反应而形成。电镀过程如图1所示。
 

     从电镀的基本原理可以看出.改进镀层质量可以从两个方面人手：①调整电镀溶液;②改进电镀电源。现实中.广泛采用了改进电镀电源的方法。关于这点，可以从电镀电源的发展演变过程中看出。

    2.2电镀电源的发展阶段

    电镀电源经历了四个发展阶段：

    (1)直流发电机阶段这种电源耗能大、效率低、噪声大.已经被淘汰。

    (2)硅整流阶段是直流发电机的换代产品，技术十分成熟，但效率低，体积大，控制不方便。目前，仍有许多企业使用这种电镀电源。

    (3)可控硅整流阶段是目前替代硅整流电源的主流电源，具有效率高、体积小、调控方便等特点。随着核心器件——可控硅技术的成熟与发展.该电源技术日趋成熟，已获得广泛应用。

    (4)晶体管开关电源即脉冲电源阶段脉冲电镀电源是当今最为先进的电镀电源，它的出现是电镀电源的一次革命。这种电源具有体积小、效率高、性能优越、纹波系数稳定.而且不易受输出电流影响等特点。脉冲电镀电源是发展的方向，现已开始在企业中使用罔。